1月13日，A股光刻机观念走高3D肉蒲团，多只观念股高潮。终结收盘，茂莱光学高潮15.23%，永新光学高潮8.70%，波长光电高潮6.87%，国林科技高潮6.78%，东方嘉盛高潮6.11%。

音尘面上，日前，好意思国商务部工业和安全局（BIS）纠正了《出口管制条例》，波及中国、缅甸和巴基斯坦等三个国度的13家实体，而中国实体占其中11家。其中，波及中国科学院长春光学精密机械与物理磋商所与中国科学院上海光学精密机械磋商所，此外，还有多家从事光学元件开发的企业也被纳入名单。

笔据公开云尔，长光所和上光所是光刻机产业链的“茅头兵”。

国表里各具上风

光刻机，别名掩模瞄准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大范畴集成电路的要道开辟。而光刻机行业则是一个高度时刻密集型和成本密集型的行业，其发展水平告成反应了一个国度在半导体制造边界的实力。

跟着半导体产业的快速发展，光刻机的市集需求束缚增长，市集范畴抓续扩大。为了满足半导体工艺对更小线宽和更高集成度的需求，光刻机的时刻升级速率束缚加速，市集竞争也日益狠恶。

现在，海外先进光刻机厂商领有更弘大的时刻研发智商和出产制造智商，其居品时常具有更高的永别率、更小的制程尺寸以及更好的踏实性和可靠性。比较之下，国内光刻机在时刻方面还有一定的差距，但正在逐渐减轻。

相悖的，国内光刻机在价钱上具有一定的竞争上风，因为国内制造商的成本适度智商和出产范畴较大，梗概以更便宜的价钱提供光刻机开辟。

中国企业动须相应

在高端光刻机边界，格外是极紫外（EUV）光刻机方面，ASML（阿斯麦）处于十足当先地位。公开云尔泄漏，ASML是现在公共独一能制造极紫外光刻机的企业，其EUV光刻机在公共市荟萃占据了100%的份额。

此外，蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徕卡、奥林巴斯等国际企业在公共工业级精密光学市荟萃占据了杰出70%的市集份额。这些企业天然不专注于光刻机制造，但也在联系边界领有弘大的时刻实力和市集份额。

对比来看的话，在公共光刻机市荟萃，现在中国企业的占比较低。其中，上海微电子是中国光刻机的十足龙头，出货量已占国内市集份额杰出80%。其居品主要波及ArF、KrF和i-line边界，已具备90nm及以下的芯片制造智商。

比年来，跟着国度政策的扶抓和行业的发展，中国光刻机企业正在逐渐崛起。

2024年，工业和信息化部等七部门都集发布《对于鼓动改日产业转换发展的践诺意见》，旨在鼓动有色金属、化工、无机非金属等先进基础材料升级，发展高性能碳纤维、先进半导体等要道计谋材料，并加速超导材料等前沿新材料转换诳骗。这为光刻机所需的半导体材料等边界提供了发展指导，有助于提高光刻机制造的原材料水平。

2023年，河北省发布《加速成立数字河北行动决议（2023-2027年）》，该决议旨在加速石家庄信息产业集群成立，完善半导体材料、集成电路、卫星互联网等产业链条，鼓动要紧技俩成立，打造千亿级电子信息产业集群。

此外，国度不如期发布行业税收优惠，资金营救等政策，并确立科技研发专项基金，都在为半导体行业发展助力，提高总共产业链水平。

国内企业获取时刻碎裂

上述提到，上海微电子是中国光刻机边界的领军企业。在公共后谈光刻机市集，上海微电子占有率高达37%，在中国市集的占有率更是高达85%。

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此外，华卓精科、国科精密、浙江启尔机电、东方晶源、沈阳芯源微、富家激光和福晶科技等，这些企业在光刻机整机、要道零部件、曝光系统、浸液系统等方面获取了显赫融会，为国产光刻机的发展提供了伏击营救。

股价在今天结束高潮的茂莱光学是国内稀缺的工业级精密光学概括管制决议提供商。公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机结束光泽均匀性与曝光成像的要道模块。

在半导体诳骗边界，波长光电则已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的智商。公司奏效开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机边界配套，并已请托多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

炬光科技成立多年来一直为半导体光刻诳骗边界提供光刻机曝光系统中的中枢激光光学元器件——光场匀化器，供应给寰宇顶级光学企业A公司，最终诳骗于公共高端光刻机出产商的中枢开辟。同期，公司与国内在这一边界的研发单元有平凡互助，公司的光场匀化器居品诳骗于国内主要光刻机研发技俩和样机中。